Micro-nano-fabrication : Lithographie et Gravure

Théorie et pratique de la fabrication de micro et nanostructures ; les procédés de nano-fabrication utilisés dans les domaines du semi-conducteur, de la nanophotonique, des MEMs, de la microfluidique...

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PRÉ-REQUIS

Bac scientifique ou technologique

Programme

Cours (une demi-journée) :
Généralités sur la fabrication des circuits intégrés ; comparatif des techniques de lithographie ; lithographie électronique ; lithographie optique ; limites de résolution ; résines de lithographie, propriétés et mécanismes chimiques ; gravure humide ; gravure plasma ; gravure ionique réactive ; soft lithography PDMS ; microcontact printing.
Manipulations :
- Utilisation d- matériel de salle blanche (dépôt résine ; nettoyage de substrat ; aligneur ; RIE) : une demi-journée,
- Lithographie UV sur aligneur de masque. Résines positive et négative : une demi-journée,
- Litho électronique : fabrication de motifs à l’échelle nanométrique. : une demi-journée,
- Gravure plasma sur bâti RIE (gravure ionique réactive) o- usineur ionique : une demi-journée,
- Soft lithography ; PDMS pour la microfluidique ; microcontact printing sur Or : une demi-journée.

Objectifs

Connaitre les bases de la pratique des techniques de nano-micro-fabrication, en particulier utilisant la lithographie UV, la lithographie électronique et la gravure plasma (RIE).

DIPLÔME DÉLIVRÉ

Attestation de stage

Durée : 28h

2 à 4 jours

Nombre :
2 à 4 participants

PUBLIC

-Techniciens
-Ingénieurs
-Chercheurs.

LIEU

DIJON
Université de Bourgogne
(Bâtiment Mirande)

TARIFS

413 € par jour et par personne
(repas midi et pauses café inclus)

DATES

Septembre 2017, Janvier et Mai 2018*

*Veuillez contacter le responsable pédagogique de formation

CONTACT

Responsable pédagogique :
MARKEY Laurent
laurent.markey@u-bourgogne.fr

Chargé d’ingénierie de formation :
SALEUR Emmanuel
emmanuel.saleur@u-bourgogne.fr

Assistante de formation :
SAUQUE Isabelle
isabelle.sauque@u-bourgogne.fr

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